Свой фоторезист для 7-нм техпроцесса создали в Китае

Созданием высокочувствительного фоторезиста для производства микросхем по 7-нанометровому техпроцессу провела китайская компания Jiangsu Nata Opto. Это материал, необходимый для переноса схемы чипа на кремниевую пластину. Ранее в стране изготавливали фоторезисты лишь для производственных норм 365 нм и выше, а более современные материалы закупали в США и Японии. Чтоб не зависит от импортных поставок, которые в нынешних условиях могут прекратиться в любой момент из-за санкций, китайское правительство решило производить собственные материалы, сообщает cnTechPost. Однако пока вышла лишь первая пробная партия фоторезиста с нормами от 28 до 7 нм, ждать массовых поставок нужно будет еще около трех лет. Фото: из открытых источников